🤯 半导体行业又有大突破了！大日本印刷（DNP）宣布开发出回路线幅仅为10nm的纳米压印光刻（NIL）模板，预计2027年开始量产！📅
📝 先进半导体制造过程中，微细化进程正在加速推进，但极端紫外线（EUV）曝光设备的成本和能耗一直是难题。😩 而这次DNP的NIL模板技术，可以将电力消耗降低到原来的约1/10！💚 相比传统的ArF液浸或EUV曝光，简直是降维打击！
💡 有了这项技术，EUV曝光工艺的一部分可以被取代，甚至可以在没有EUV曝光设备的生产线上，制造出最先进的逻辑半导体设备。🤯 你说这技术香不香？👀
🔥 按照计划，DNP的这款NIL模板不仅能用于NAND型闪存，还能用于1.4nm世代的先进逻辑半导体制造。未来可期！🌟
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